Ergebnis der Vergabe
Deutschland – Elektrische Maschinen, Geräte, Ausstattung und Verbrauchsartikel; Beleuchtung – CMP Tool Anlage zum chemisch-mechanischen Polieren von Wafern
270.328 €
Schätzwert der Vergabestelle
1
Bieter
1
Los
Beschreibung
CMP Tool Anlage zum chemisch-mechanischen Polieren von Wafern
Analyse: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto
Mit einem Konto liest Tender Automation die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus eine Analyse: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.
Analyse ansehenAngaben aus der Bekanntmachung
- Ort
- Berlin
- Bundesland
- Berlin
- CPV
- 31000000 — Elektrische Maschinen, Geräte, Ausstattung und Verbrauchsartikel; Beleuchtung
- Verfahrensart
- Verhandlungsverfahren mit vorheriger Veröffentlichung eines Aufrufs zum Wettbewerb/Verhandlungsverfahren
- Veröffentlicht
- 14.03.2024
- Kennung
- 825e9823-8a32-4e40-8c4c-12b60ddb67cd
- Quelle
- TED (EU-Amtsblatt)
Lose
- Los 0
Zuschlag
- Struers GmbHWillich
Zum Vergabeportal
Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 14.03.2024, 01:00.