Ergebnis der Vergabe
Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System)
1.052.137 €
Zuschlagswert
1
Bieter
1
Los
Analyse: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto
Mit einem Konto liest Tender Automation die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus eine Analyse: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.
Analyse ansehenAngaben aus der Bekanntmachung
- Ort
- Waldheim
- Bundesland
- Sachsen
- CPV
- 31712100 — Mikroelektronische Maschinen und Geräte
- Verfahrensart
- Offenes Verfahren
- Veröffentlicht
- 30.06.2026
- Zuschlag am
- 30.06.2026
- Kennung
- 019e0178-f4b2-4d65-9d09-68ed63f910bf
- Quelle
- oeffentlichevergabe.de (Bund)
Lose
- Los 1 — Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System)
Zuschlag
- Raith GmbHDortmund
Verlauf des Verfahrens
-
Ausschreibung
12.05.2026
Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System) -
Ausschreibung
13.05.2026
Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System) -
Ergebnis der Vergabe
30.06.2026
Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System) -
Ergebnis der Vergabe
02.07.2026
Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System)
Änderungen der Bekanntmachung
- Bieterzahl: keine Angabe → 1 25.09.2026, 06:43
- Zuschlagswert ergänzt: keine Angabe → 1.052.137 25.09.2026, 06:43
- Zuschlag am: 30.06.2026, 00:00 → 30.06.2026, 23:59 25.09.2026, 06:43
Zum Vergabeportal
Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 25.09.2026, 06:43.