Ergebnis der Vergabe
Deutschland – Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke – ICP- RIE Plasma Etching Tool (IAF 07c.1) - PR877552-2050-P
Beschreibung
ICP- RIE Plasma Etching Tool (IAF 07c.1)
Analyse: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto
Mit einem Konto liest Tender Automation die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus eine Analyse: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.
Analyse ansehenAngaben aus der Bekanntmachung
- Auftraggeber
- Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
- Ort
- München
- CPV
- 42900000 — Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke
- Verfahrensart
- Verhandlungsverfahren ohne Aufruf zum Wettbewerb
- Veröffentlicht
- 11.08.2025
- Zuschlag am
- 07.08.2025
- Kennung
- 1ae6c033-ae98-442f-8ed3-cc9697c11356
- Quelle
- TED (EU-Amtsblatt)
Lose
- Los 0
Zuschlag
- SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbHKrailling
Einordnung
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 im Bestand
Auftraggeberprofil: alle Verfahren und Kennzahlen
Quelle: veröffentlichte Bekanntmachungen dieses Auftraggebers aus den angebundenen Vergabeportalen, Stand 01.10.2026.
Vergleichbare Verfahren: Industriemaschinen, bundesweit
Quelle: veröffentlichte Zuschlagsbekanntmachungen derselben CPV-Abteilung (42) im Bestand von Tender Automation; Werte, die ein Portal nicht veröffentlicht, fehlen in der jeweiligen Zahl. Stand der Auswertung: 01.10.2026. Alle Zuschläge
Zum Vergabeportal
Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 12.09.2026, 19:40.