Ergebnis der Vergabe
Deutschland – Halbleiter – Plasma-Ätzanlage - PR1241915-2270-W
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Beschreibung
Plasma-Ätzanlage
Analyse: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto
Mit einem Konto liest Tender Automation die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus eine Analyse: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.
Analyse ansehenAngaben aus der Bekanntmachung
- Auftraggeber
- Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12
- Ort
- München
- Bundesland
- Bayern
- CPV
- 31712330 — Halbleiter
- Verfahrensart
- Verhandlungsverfahren ohne Aufruf zum Wettbewerb
- Veröffentlicht
- 18.09.2026
- Zuschlag am
- 15.09.2026
- Kennung
- 86c31d10-c294-4230-b79b-0827972738a0
- Quelle
- TED (EU-Amtsblatt)
Lose
- Los 0
Zuschlag
- HQ-Dielectrics GmbHDornstadt
Verlauf des Verfahrens
-
Ergebnis der Vergabe
17.09.2026
Plasma-Ätzanlage - PR1241915-2270-W -
Ergebnis der Vergabe
18.09.2026
Deutschland – Halbleiter – Plasma-Ätzanlage - PR1241915-2270-W
Zum Vergabeportal
Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 18.09.2026, 04:16.